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設(shè)備特點：
★設(shè)備采用共焦濺射結(jié)構(gòu)，靶槍高度、角度可以調(diào)節(jié)
★工藝氣體從真空室抽氣口前部通入靶面，抽氣口位于真空室側(cè)部，保證整個真空室內(nèi)反應(yīng)氣體濃度穩(wěn)定一致
★西門子PLC+觸摸屏手自動控制或電腦+PLC全自動控制可選
設(shè)備參數(shù)：
★腔體尺寸（L×W×Hmm)：300×300×380
★設(shè)備尺寸（L×W×Hmm)：600×900×1900
★基片臺：襯底最高加熱溫度500℃，室溫至200度精度±3℃，300度至500度精度±1.5℃樣品臺可加負偏壓-800V
★真空極限：（5E﹣05）Pa
★抽速保壓：（8E﹣04）Pa≤30min保壓12小時≤8pa
★托盤均勻性優(yōu)于±3％~±5%
★濺射靶槍兩個（2-3英寸）濺射尺寸2-4英寸
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