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設(shè)備特點(diǎn)：
★設(shè)備可配備矩形磁控濺射靶，圓形平面靶、柱狀靶，多弧靶，離子源等
★設(shè)備功能強(qiáng)大、磁控、多弧、離子源等通用接口安裝實(shí)現(xiàn)任意組合，可最大限度實(shí)現(xiàn)多種類(lèi)膜層的制備
★適合研發(fā)實(shí)驗(yàn)室初期多用途薄膜制備平臺(tái)的搭建
設(shè)備參數(shù)：
★腔體尺寸：304不銹鋼腔室Φ650×H700mm
★真空極限：優(yōu)于（5E﹣05）Pa
★工件架：約Φ350mm，4-6工位公/自轉(zhuǎn)工件架；可加偏壓
★工件烘烤溫度：室溫500±5℃ 可調(diào)可控（PID控溫）
★工件架轉(zhuǎn)速：0-20RPM可調(diào)
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